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光刻胶的未来发展

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由于光刻胶的技术壁垒较高，国内光刻胶市场基本被国外企业垄断。---是高分辨率的krf和arf光刻胶，基本被日本和美国企业占据。

国内光刻胶生产商主要生产pcb光刻胶，面板光刻胶和半导体光刻胶生产规模相对较小。国内生产的光刻胶中，pcb光刻胶占比94%，lcd光刻胶和半导体光刻胶占比分别仅有3%和2%。

国内光刻胶需求量远大于本土产量，且差额逐年扩大。由于国内光刻胶起步晚，目前技术水平相对落后，生产产能主要集中在pcb光刻胶、tn/stn-lcd光刻胶等中低端产品，nr71 3000py光刻胶，tft-lcd、半导体光刻胶等高技术壁垒产品产能很少，仍需大量进口，nr71 3000py光刻胶厂家，从而导致国内光刻胶需求量远大于本土产量。

如何选购光刻胶？

光刻加工工艺中为了图形转移，辐照必须作用在光刻胶上，通过改变光刻胶材料的性质，使得在完成光刻工艺后，光刻版图形被在圆片的表面。而加工前，如何选用光刻胶在很大程度上已经决定了光刻的精度。尽管正性胶的分辨力是的，但实际应用中由于加工类型、加工要求、加工成本的考虑，需要对光刻胶进行合理的选择。

划分光刻胶的一个基本的类别是它的极性。光刻胶在---之后，被浸入显影溶液中。在显影过程中，正性光刻胶曝过光的区域溶解得要快得多。理想情况下，未---的区域保持不变。负性光刻胶正好相反，在显影剂中未---的区域将溶解，而---的区域被保留。正性胶的分辨力往往是的，因此在ic制造中的应用更为普及，但mems系统中，nr71 3000py光刻胶，由于加工要求相对较低，光刻胶需求量大，负性胶仍有应用市场。