树脂:光刻树脂是一种惰性的聚合物基质 ，是用来将其他材料聚合在一-起的粘合剂。 光刻胶的粘附性、胶膜厚度等都是树脂给的。
感光剂:感光剂是光刻胶的---部分，他对光形式的辐射能，---在紫外区会发生反应。---时间、光源所发射光线的强，负性光刻胶报价，度都根据感光剂的特性选择决定的。
溶剂:光刻胶中容量较大的成分，感光剂和添加剂都是固体物质，为了方便均匀的涂覆，要将他们加入溶剂进行溶解，形成液态物质，负性光刻胶，并且使之具有---的流动性，可以通过选择方式涂布在waf er表面。
添加剂:用以改变光刻胶的某些特性，如---光刻胶发生反射而添加染色剂。
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光刻胶市场需求逐年增加，2018年全球半导体光刻胶销售额12.97亿美元，而国内光刻胶需求量方面，2011年光刻胶需求量为3.51万吨，到2017年需求量为7.99万吨，负性光刻胶哪里有，年复合增长率达14.69%。
国内光刻胶需求量远大于本土产量，且差额逐年扩大。由于---光刻胶市场起步晚，目前技术水平相对落后，生产产能主要集中在pcb光刻胶、tn/stn-lcd光刻胶等中低端产品，tft-lcd、半导体光刻胶等高技术壁垒产品产能很少。
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目前全球光刻胶市场基本被日本和美国企业所垄断。光刻胶属于高技术壁垒材料，生产工艺复杂，纯度要求高，需要长期的技术积累。日本的jsr、东京应化、信越化学及富士电子四家企业占据了全球70%以上的市场份额，处于市场垄断---。
光刻胶市场需求逐年增加，2018年全球半导体光刻胶销售额12.97亿美元。随着下游应用功率半导体、传感器、存储器等需求扩大，未来光刻胶市场将持续扩大。
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