当前位置： 首页> 商机信息
 
商机信息
信息标题 NR9 1500P光刻胶报价-赛米莱德
发布时间 2022-6-27
nr77-20000pnr9 1500p光刻胶 6，坚膜 坚膜也叫后烘，是为了去除由于显影液的浸泡引起胶膜软化、溶胀现象，能使胶膜附着能力增强，康腐蚀能力提高。坚膜温度通常情况高于前烘和***
信息标题 NR9 1500PY光刻胶厂家-赛米莱德
发布时间 2022-6-27
光刻胶的参数介绍1．对比度（Contrast）对比度指光刻胶从曝光区到非曝光区过渡的陡度。 对比度越好，NR9 1500PY光刻胶，越容易形成侧壁陡直的图形和较高的宽高比。2．粘滞性/黏度 （
信息标题 赛米莱德-NR7 6000P光刻胶多少钱
发布时间 2022-6-25
光刻胶的作用有什么？光刻是将图形由掩膜版上转移到硅片上，为后续的刻蚀步骤作准备。在光刻过程中，需在硅片上涂一层光刻胶，经紫外线***后，光刻胶的化学性质发生变化，在通过显***，被***的光刻
信息标题 NR9 3000PY光刻胶哪家好-北京赛米莱德公司
发布时间 2022-6-24
光刻胶光增感剂是引发助剂，能吸收光能并转移给光引发剂，NR9 3000PY光刻胶，或本身不吸收光能但协同参与光化学反应，起到提高引发效率的作用。光致产酸剂吸收光能生成酸性物质并使曝光区域发生酸
信息标题 NR9 3000PY光刻胶-北京赛米莱德公司
发布时间 2022-6-22
光刻胶的作用有什么？光刻是将图形由掩膜版上转移到硅片上，为后续的刻蚀步骤作准备。在光刻过程中，需在硅片上涂一层光刻胶，经紫外线曝光后，光刻胶的化学性质发生变化，在通过显影后，被曝光的光刻胶将被去除，从
信息标题 NR74g 3000PY光刻胶-赛米莱德
发布时间 2022-6-19
光刻胶的主要技术参数1、分辨率:区别硅片表***邻图形特性的能力，一般用关键尺寸来衡量 分辨率。形成的关键尺寸越小，光刻胶的分辨率越好。2、对比度:指光刻胶从***区到非***区过渡的陡度。对
信息标题 NR26 25000P光刻胶-赛米莱德
发布时间 2022-6-18
市场规模中国半导体产业稳定增长，半导体产业向中国转移。据WSTS和SIA统计数据，2016年中国半导体市场规模为1659.0亿美元，增速达9.2%，NR26 25000P光刻胶厂家，大于增长速
信息标题 NR94 8000PY光刻胶公司-赛米莱德(推荐商家)
发布时间 2022-6-15
光刻胶的性能赛米莱德生产、销售光刻胶，nr94 8000py光刻胶多少钱，以下信息由赛米莱德为您提供。光刻胶产品种类多、性强，是典型的技术密集型行业。不同用途的光刻胶***光源、反应机理、制造
信息标题 NR9 3000PY光刻胶哪家好-北京赛米莱德
发布时间 2022-6-14
光刻胶的组成部分光刻胶一般由4种成分组成:树脂型聚合物、光活性物质、溶剂和添加剂。树脂是光刻胶中占比较大的组分，构成光刻胶的基本骨架，主要决定***后光刻胶的基本性能，包括硬度、柔韧性、附着力
信息标题 NR9 3000P光刻胶-赛米莱德
发布时间 2022-6-13
光刻胶的主要技术参数1、分辨率:区别硅片表面相邻图形特性的能力，一般用关键尺寸来衡量 分辨率。形成的关键尺寸越小，光刻胶的分辨率越好。2、对比度:指光刻胶从曝光区到非曝光区过渡的陡度。对比度越
上一页 [1]... [2] [3] [4] [5] [6] [7] [8] [9] [10] [11] ...下一页
页次：2/60　10条/页　共598条