nr9 3000p光刻胶-赛米莱德

光刻胶的主要技术参数

1、分辨率:区别硅片表---邻图形特性的能力，一般用关键尺寸来衡量 分辨率。形成的关键尺寸越小，光刻胶的分辨率越好。

2、对比度:指光刻胶从---区到非---区过渡的陡度。对比度越好，nr9 3000p光刻胶价格，形成图形的侧壁越陡峭，nr9 3000p光刻胶厂家，分辨率越好。

3、敏感度:光刻胶上产生一 个---的图形所需一 定波长的小能量值(或小---量)。单位:焦/平方厘米或mj/cm2.光刻胶

的敏感性对于波长更短的深紫外光(duv)、极深紫外光(euv)等尤为重要。

4、粘滞性/黏度:衡量光刻胶流动特性的参数。粘滞性随着光刻胶中的溶剂的减少而增加;高的粘滞性会产生厚的光刻胶;越小的

粘滞性，就有越均匀的光刻胶厚度。

5、粘附性:表征光刻胶粘着于衬底的强度。光刻胶的粘附性不足会导致硅片表面的图形变形。

6、抗蚀性:光刻胶必须保持它的粘附性，在后续的刻蚀i序中保护衬底表面。

7、表面张力:液体---表面分子拉向液体主体内的分子间吸引力。光刻胶应该具有比较小的表面张力，nr9 3000p光刻胶，使光刻胶具有---的流动性和覆盖。

8、存储和传送:能量可以启动光刻胶。应该存储在密闭、低温、不透光的盒中。 同时必须规定光刻胶的闲置期限和存贮温度环境。

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