北京赛米莱德贸易有限公司
主营业务z:光刻胶,负性光刻胶,透明光刻胶 等
010-63332310
15201255285
首页
公司介绍
招商信息
产品库
供应信息
企业资讯
联系我们
当前位置:
首页
>
商机信息
公司介绍
企业资讯
产品库
供应信息
招商信息
求购信息
展会信息
联系方式
商机信息
信息标题
NR73G 6000P光刻胶-赛米莱德
发布时间
2021-6-11
NR9-3000PYNR73G 6000P光刻胶 2,涂胶,在硅片覆盖,旋转,离心力,在硅片表面通过旋转的光刻胶,工艺参数3000-6000rpm 胶膜厚0.5-1um
信息标题
赛米莱德-NR26 25000P光刻胶
发布时间
2021-6-11
光刻胶的作用光刻开始于-种称作光刻胶的感光性液体的应用。 图形能被映射到光刻胶上,然后用一个developer就能做出需 要的模板图案。光刻胶又称光致抗蚀剂,是以智能管感光材料,在光的照射与溶
信息标题
NR94 8000PY光刻胶-赛米莱德公司
发布时间
2021-6-11
PR1-1000A1NR94 8000PY光刻胶NR94 8000PY光刻胶 5,NR94 8000PY光刻胶哪家好,显影液 在已经曝光的硅衬底胶面喷淋显影液,或将其浸泡在显影液中,正胶是曝光
信息标题
NR94 8000PY光刻胶报价-赛米莱德
发布时间
2021-6-11
光刻工艺重要性二光刻胶的曝光波长由宽谱紫外向g线→i线→KrF→ArF→EUV(13.5nm)的方向移动。随着曝光波长的缩短,光刻胶所能达到的极限分辨率不断提高,光刻得到的线路图案精密度更佳,
信息标题
北京赛米莱德有限公司-NR94 8000PY光刻胶哪家好
发布时间
2021-6-11
PR1-1500A1NR94 8000PY光刻胶 6,坚膜 坚膜也叫后烘,是为了去除由于显影液的浸泡引起胶膜软化、溶胀现象,能使胶膜附着能力增强,康腐蚀能力提高。 坚膜温度通常情况高于前烘和曝
信息标题
PR1 1500A1光刻胶价格-北京赛米莱德有限公司
发布时间
2021-6-11
光刻胶的成分树脂:光刻树脂是一种惰性的聚合物基质 ,PR1 1500A1光刻胶哪家好,是用来将其他材料聚合在一-起的粘合剂。 光刻胶的粘附性、胶膜厚度等都是树脂给的。感光剂:感光剂是光刻胶的核
信息标题
赛米莱德公司-PR1 1500A1光刻胶哪里有
发布时间
2021-6-11
光刻胶的参数介绍1.对比度(Contrast)对比度指光刻胶从曝光区到非曝光区过渡的陡度。 对比度越好,越容易形成侧壁陡直的图形和较高的宽高比。2.粘滞性/黏度 (Viscosity)衡量光刻
信息标题
干光刻胶-干光刻胶公司-赛米莱德(推荐商家)
发布时间
2021-6-11
光刻胶的应用以下内容由赛米莱德为您提供,希望对同行业的朋友有所帮助。模拟半导体(Analog Semiconductors)发光二极管(Light-Emitting Diodes LEDs)微
信息标题
负光阻光刻胶哪家好-赛米莱德-光刻胶哪家好
发布时间
2021-6-11
光刻胶的核心参数是什么?分辨率、对比度和敏感度是光刻胶的核心技术参数。随着集成电路的发展,芯片制造特征尺寸越来越小,对光刻胶的要求也越来越高。光刻胶的核心技术参数包括分辨率、对比度和敏感度等。
信息标题
NR26 25000P光刻胶-北京赛米莱德公司
发布时间
2021-6-11
光刻胶的生产步骤 1、准备基质:在涂布光阻剂之前,硅片一般要进行处理,需要经过脱水烘培蒸发掉硅片表面的水分,并涂上用来增加光刻胶与硅片表面附着能力的化合物以及硅二***。2、涂布光阻剂(ph
上一页
[1]
...
[26]
[27]
[28]
[29]
[30]
[31]
[32]
[33]
[34]
[35]
...
下一页
页次:
30
/60 10条/页 共598条