nr73g 6000p光刻胶报价-北京赛米莱德

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    2022-7-3

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  • 主营产品|光刻胶,负性光刻胶,透明光刻胶
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发展

futurrex在开发产品方面已经有很长的历史

我们的客户一直在同我们共同合作,创造出了很多---的产品。

在晶体管(transistor) ,封装,微机电。显示器,oleds,波导(waveguides) ,nr73g 6000p光刻胶厂家,vcsels,

成像,电镀,纳米碳管,微流体,芯片倒装等方面。我们都已经取得一系列的技术突破。

目前futurrex有数百个技术在美国商标局备案。

futurrex 产品目录

正性光刻胶

增强粘附性正性光刻胶

负性光刻胶

增强粘附性负性光刻胶

---工艺负性光刻胶

用于lift-off工艺的负性光刻胶

非光刻涂层

平坦化,保护、粘接涂层

氧化硅旋涂(spin-on glas)

掺杂层旋涂

辅助化学品

边胶清洗液

显影液

去胶液

futurrex所有光刻产品均无需加增粘剂(hmds)


nr77-20000pnr73g 6000p光刻胶

6,坚膜

坚膜也叫后烘,是为了去除由于显影液的浸泡引起胶膜软化、溶胀现象,能使胶膜附着能力增强,康腐蚀能力提高。坚膜温度通常情况高于前烘和---后烘烤的温度 100-140 10-30min,7,显影检验光刻胶钻蚀、图像尺寸变化、套刻对准---、光刻胶膜损伤、线条是否齐、陡,针kong、小岛。

8刻蚀

就是将涂胶前所垫基的薄膜中没有被光刻胶覆盖和保护的那部分进行腐蚀掉,nr73g 6000p光刻胶哪里有,达到将光刻胶上的图形转移到下层材料的目的。湿法刻蚀,sio2,nr73g 6000p光刻胶,al, poly-si 等薄膜,干法腐蚀。


提供---化学技术的多样化解决方案

成立于1985年,总部设在美国新泽西州,富兰克林市,nr73g 6000p光刻胶报价,高速成长并超过20年连续盈利的跨国公司

公司业务覆盖范围包括北美,亚太以及欧洲

基于多样化的技术

应用领域:微电子、光电子、led、太阳能光伏、微机电系统、生物芯片、微流体、平面印刷

解决方案:的光刻胶、掺杂涂层、平坦化涂层、旋制氧化硅(spin-onglase)。阻挡层(barrior layere)、湿法制程

客户:从---100强到以风险投资为背景的设备研发及制造公司

使命

目标

提供特殊化学品和全新工艺来增加客户的产能

策略

提供的产品来优化生产制程,以提高设备能效

领的技术提升生产过程中的整体

工艺步骤的减少降低了成本和产生瑕疵的可能

增加客户的产能和生产的效率

工艺减化

非同寻常的显微构造、金属及介电层上的图形转换、光刻、平坦化、掺杂、蚀刻、邦定

在生产过程中,不含有害溶剂

支持所有客户的需要,与客户共创成功


nr73g 6000p光刻胶报价-北京赛米莱德由 北京赛米莱德贸易有限公司提供。 北京赛米莱德贸易有限公司是北京 大兴区 ,半导体材料的见证者,多年来,公司贯彻执行科学管理、---发展、诚实守信的方针,满足客户需求。在赛米莱德---携全体员工热情欢迎---垂询洽谈,共创赛米莱德美好的未来。


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