1.对比度(contrast)
对比度指光刻胶从---区到非---区过渡的陡度。 对比度越好,越容易形成侧壁陡直的图形和较高的宽高比。
2.粘滞性/黏度 (viscosity)
衡量光刻胶流动特性的参数。黏度通常可以使用光刻胶中聚合物的固体含量来控制。同一种光刻胶根据浓度不同可以有不同的黏度,而不同的黏度决定了该胶的不同的涂胶厚度。
3.抗蚀性(anti-etching)
光刻胶必须保持它的粘附性,在后续的刻蚀工序中保护衬底表面。耐热稳定性、抗刻蚀能力和抗离子轰击能力。
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光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一,rr41光刻胶,---是近年来---和---规模集成电路的发展,更是大---进了光刻胶的研究开发和应用。印刷工业是光刻胶应用的另一重要领域。
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分辨率、对比度和敏感度是光刻胶的技术参数。随着集成电路的发展,rr41光刻胶报价,芯片制造特征尺寸越来越小,rr41光刻胶厂家,对光刻胶的要求也越来越高。光刻胶的技术参数包括分辨率、对比度和敏感度等。为了满足集成电路发展的需要,rr41光刻胶多少钱,光刻胶朝着高分辨率、高对比度以及高敏感度等方向发展。
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