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光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，---是近年来---和---规模集成电路的发展，更是大---进了光刻胶的研究开发和应用。印刷工业是光刻胶应用的另一重要领域。1954 年由明斯克等人首先研究成功的就是用于印刷工业的，以后才用于电子工业。 [1] 光刻胶是一种有机化合物，它被紫外光---后，电子光刻胶，在显影溶液中的溶解度会发生变化。硅片制造中所用的光刻胶以液态涂在硅片表面，而后---燥成胶膜。
光刻胶按其形成图形的极性可以分为：正性光刻胶和负性光刻胶。正胶指的是聚合物的长链分子因光照而截断成---分子；负胶指的是聚合物的---分子因光照而交链长链分子。 ---分子聚合物可以被显影液溶解掉，因此正胶的---部分被去掉，而负胶的---部分被保留。
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光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料，是转移紫外---或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的英文名为resist，又翻译为抗蚀剂、光阻等。广泛应用于集成电路(ic)，封装(packaging)，微机电系统(mems)，电子光刻胶价格，光电子器件光子器件(optoelectronics/photonics)，平板显示器(led，lcd，oled)，电子光刻胶多少钱，太阳能光伏(solar pv)等领域。
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