所谓光刻,根据---的定义,这是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤,该步骤利用---和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构,然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆,还可以是其他金属层、介质层,例如玻璃、sos中的蓝宝石。
光刻的基本原理是利用光致抗蚀剂(或称光刻胶)感光后因光化学反应而形成耐蚀性的特点,将掩模板上的图形刻制到被加工表面上。
发展
futurrex在开发产品方面已经有很长的历史
我们的客户一直在同我们共同合作,创造出了很多---的---产品。
在晶体管(transistor) ,封装,微机电。显示器,oleds,波导(waveguides) ,vcsels,
成像,电镀,纳米碳管,微流体,芯片倒装等方面。我们都已经取得一系列的技术突破。
目前futurrex有数百个---技术在美国---商标局备案。
futurrex 产品目录
正性光刻胶
增强粘附性正性光刻胶
负性光刻胶
增强粘附性负性光刻胶
---工艺负性光刻胶
用于lift-off工艺的负性光刻胶
非光刻涂层
平坦化,保护、粘接涂层
氧化硅旋涂(spin-on glas)
掺杂层旋涂
辅助化学品
边胶清洗液
显影液
去胶液
futurrex所有光刻产品均无需加增粘剂(hmds)
nr9 1500p光刻胶-北京赛米莱德有限公司由 北京赛米莱德贸易有限公司提供。 北京赛米莱德贸易有限公司(www.semild.com)是一家从事“光刻胶”的公司。自成立以来,我们坚持以“诚信为本,---经营”的方针,勇于参与市场的良性竞争,使“赛米莱德”品牌拥有------。我们坚持“服务为先,用户”的原则,使赛米莱德在工业制品中赢得了众的客户的---,树立了---的企业形象。 ---说明:本信息的图片和资料仅供参考,欢迎联系我们索取准确的资料,谢谢!
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