20.有没有光刻胶pc3-6000的资料吗?
a pc3-6000并不是光刻胶,它是用在chip
on glass 上的胶粘剂。
21.是否有wax替代品?
a pc3-6000可替代wax做晶片和玻璃的固定,比较容易去除掉。
22.贵公司是否有粘接硅衬底和衬底的材料?
a 有,ic1-200就是
23.请问是否有不用hmds步骤的正性光刻胶?
a 美国futurrex 整个系列的光刻胶都不需要hmds步骤,都可以简化。
24.一般电话咨询光刻胶,我们应该向客户咨询哪些资料?
a 1 需要知道要涂在什么材质上,2
还有要知道需要做的膜厚,3
还要知道光刻胶的分辨率
4还有需要正胶还是负胶,5
需要国产还是进口的
27.想找一款膜厚在120um,的光刻胶,有什么光刻胶可以做到啊!
a 以前有使用过美国有款光刻胶可以达到futurrex
nr21-20000p ,。
28.有没有了解一款美国futurrex
nr9-250p的光刻胶,请教下?
a 这是一款负性光刻胶,湿法蚀刻使用的,附着力---,nr7 6000py光刻胶,耐100度的温度,国内也有可以代理的公司,futurre
光刻胶是第4大的电子化学品制造商,在光刻胶的领域有着---的声誉,在太阳能光伏,和led半导体行业都有---的市场占有率。
29.想找款膜厚的产品,进行蚀刻,有什么好?
a 厚膜应用(thick
film applicati),主要是指高纵横比(aspect
ratios),高分辨率,高反差,有几款产品向你一下
正性光刻胶也称为正胶。正性光刻胶树脂是一种叫做线性酚醛树脂的酚醛甲醛,nr7 6000py光刻胶公司,提供光刻胶的粘附性、化学抗蚀性,当没有溶解存在时,线性酚醛树脂会溶解在显影液中,感光剂是光敏化合物,常见的是------(dnq)。在---前,dnq是一种---的溶解,降低树脂的溶解速度。在紫外---后,dnq在光刻胶中化学分解,成为溶解度增强剂,大幅提高显影液中的溶解度因子至100或者更高。这种---反应会在dnq中产生羧酸,它在显影液中溶解度---。正性光刻胶具有---的对比度,所以生成的图形具有---的分辨率。
五、---
在这一步中,nr7 6000py光刻胶价格,将使用特定波长的光对覆盖衬底的光刻胶进行选择性地照射。光刻胶中的感光剂会发生光化学反应,从而使正光刻胶被照射区域(感光区域)、负光刻胶未被照射的区域(非感光区)化学成分发生变化。这些化学成分发生变化的区域,nr7 6000py光刻胶哪里有,在下一步的能够溶解于特定的显影液中。
在接受光照后,正性光刻胶中的感光剂dq会发生光化学反应,变为---,并进一步水解为茚并羧酸(indene-carboxylic-acid, ca),羧酸在碱性溶剂中的溶解度比未感光部分的光刻胶高出约100倍,产生的羧酸同时还会促进酚醛树脂的溶解。利用感光与未感光光刻胶对碱性溶剂的不同溶解度,就可以进行掩膜图形的转移。
a、接触式---(contact printing)掩膜板直接与光刻胶层接触。
b、接近式---(proximity printing)掩膜板与光刻胶层的略微分开,大约为10~50μm。
c、投影式---(projection printing)。在掩膜板与光刻胶之间使用透镜---光实现---。
d、步进式---(stepper)
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